針對汎銓科技（6830）近期透過公開資訊觀測站及記者會，單方面宣稱光焱科技（7728）侵害其編號I870008B的「光損偵測裝置」發明專利，並高調求償一事，光焱科技於2026年3月26日嚴正駁斥。光焱強調，公司截至目前為止，並未收到任何法院相關訴訟函件，並對同業在尚未經完整司法程序前即透過媒體發布資訊，阻礙產業創新的行為表達深切遺憾與嚴正譴責。

事實陳述與光焱立場

此專利爭議的核心，在於汎銓科技認定其「光損偵測裝置」專利權範圍廣泛，足以涵蓋光焱科技的相關技術，並據此主張侵權。然而，光焱科技方面則堅定指出，雙方在檢測技術的世代上存在顯著落差，汎銓所主張的專利技術已屬舊世代，而光焱所採用的則是次世代創新方案。光焱科技認為，此舉無異於「以舊打新」，在技術與法律邏輯上均難以成立。

光焱科技進一步說明，汎銓科技聲稱其專利曾挺過17項舉發而維持有效，但經光焱檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主因是當時的舉發人提出了更先進的檢測技術與零組件作為證據，主管機關因此認定這些證據與汎銓所採用的傳統金相顯微鏡技術「無關」。這恰好印證了汎銓專利所保障的僅是其自身特定技術，與光焱科技所採用之高光譜成像系統截然不同，從而毫無侵權疑慮。

技術核心差異與專利論述

光焱科技指出，汎銓科技所宣稱的專利，其核心技術是採用傳統的「金相顯微鏡」組成方案進行光損量測。相對地，光焱科技則是以更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心，這項技術可高度整合於客戶端的既有系統，例如探針台或電測機，直接進行矽光子光學檢測。光損檢測僅是光焱在矽光子晶片檢測多功能模組中的一項應用，技術原理與實施方式與汎銓的傳統方法存在本質上的區別。

在半導體檢測產業中，專利保障的是特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」這類通用功能詞彙註冊為商標以壟斷市場。光焱科技強調，不能僅因汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱地認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備皆侵害其權益。若依此邏輯，近期國際光學大廠蔡司（Zeiss）宣佈進軍光損檢測領域，是否也將構成對汎銓的侵權？光焱科技認為，這凸顯了汎銓的說法在產業技術認知與法律邏輯上皆有失偏頗。

業界觀點與後續觀察

深耕光學與光電子晶片檢測領域長達16年的光焱科技表示，公司向來極度尊重智慧財產權，所有核心產品均為團隊自主研發，並未且無須使用其他公司的技術與專利。面對此次同業的不實指控與行銷操作，光焱科技強調公司營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響。截至2026年3月，公司將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東的合法權益。

此次專利爭議，不僅牽動兩家公司的權益，也反映了半導體檢測產業在技術快速迭代下的競爭態勢。業界普遍關注，此類「以舊打新」的專利戰，最終將如何影響矽光子等前瞻技術的創新與發展。