一句話總結：挪威新創公司 Lace Lithography 成功募得 4,000 萬美元 A 輪資金，其突破性的氦原子束微影技術，正以 0.1 奈米極致精度，劍指半導體巨頭 ASML 的市場地位，有望為下一代 AI 晶片製造延續摩爾定律。

核心要點

1. Lace Lithography 在今年 3 月完成 4,000 萬美元的 A 輪募資，由 Atomico 領投，並獲得微軟 M12 風投部門、Linse Capital、Nysnø 及西班牙技術轉型協會的參與。
2. 這家新創開發的氦原子束微影技術，其氦束寬度僅 0.1 奈米，相較於 ASML 極紫外光（EUV）光束窄了 135 倍。
3. 此技術能刻畫出比現有系統小 10 倍的晶片特徵，為原子級圖案化帶來可能，有望滿足人工智慧晶片對更密集電晶體的需求，進而延續摩爾定律。
4. Lace Lithography 於 2023 年 7 月由卑爾根大學物理學家博迪爾·霍爾斯特（Bodil Holst）及其前博士生 Adria Salvador Palau 共同創立，霍爾斯特的背景涵蓋奈米級成像與分子束微影。
5. 這項新技術的目標是挑戰 ASML 在先進微影工具市場近乎壟斷的地位，目前 ASML 的設備單價已超過 3.5 億美元。
6. Lace 已成功建造原型系統，並預計在 2029 年之前，於試點工廠部署測試工具，此計畫是在今年 2 月的微影峰會上首次提出。
7. 博迪爾·霍爾斯特表示，這項技術「可能擴展設計的路線圖，並使目前系統無法實現的設計成為可能」，預示著它將對半導體製造業產生顛覆性影響。

一句話結論

隨著 AI 晶片需求飆升與地緣政治推動半導體多元化，Lace Lithography 的氦原子束技術無疑為晶片製造業投下震撼彈，其原子級精度有望重塑產業版圖，挑戰既有巨頭的同時，也為未來科技發展開啟無限可能。