根據光焱科技（7728）最新發布的官方聲明指出，該公司針對汎銓科技（6830）單方面宣稱其侵害「光損偵測裝置」發明專利，並求償兩億元一事，表達嚴正反擊。光焱強調，雙方在晶片檢測技術上存在顯著世代差異，其核心高光譜成像技術與汎銓的傳統金相顯微鏡方案截然不同，並駁斥汎銓試圖將「光損檢測」一詞註冊商標以壟斷市場的說法，此案揭示矽光子晶片檢測領域的專利界線。

專利爭議數據剖析：汎銓求償兩億元背後的產業角力

數據發現：針對汎銓科技近期於公開資訊觀測站及記者會上，單方面指控光焱科技侵害其第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並提出高達兩億元的賠償要求，光焱科技嚴正聲明，截至目前為止，公司並未收到任何法院相關的訴訟函件。此一情況顯示，在未經完整司法程序前，相關資訊已透過媒體管道廣泛傳播。

解讀意義：此舉引發業界對於競爭手段的關注。光焱科技對於同業在尚未經司法審理確認前，即透過媒體發布訊息，試圖影響市場觀感的行為深感遺憾。這種做法不僅可能誤導大眾，更可能對產業的創新氛圍造成阻礙。

產業影響：光焱科技對此類競爭手段予以嚴正譴責，認為其可能扭曲公平競爭的原則。此事件也凸顯了科技產業在面對專利爭議時，如何平衡資訊透明與司法公正的重要性。以下為兩家公司在專利爭議上的主要聲明對比：

光焱科技強調：「對於同業在尚未經完整司法程序前，即透過媒體發布資訊，阻礙產業創新之行為深感遺憾，並對此類之競爭手段予以嚴正譴責。」

世代技術差異顯現：高光譜成像對決傳統金相顯微鏡

數據發現：光焱科技進一步指出，雙方在檢測技術的世代上存在顯著落差。汎銓科技所宣稱的專利，係採用傳統的「金相顯微鏡」組成方案進行光損量測；相較之下，光焱科技則是以次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心技術，這兩者在技術實作原理與應用上截然不同。

解讀意義：這項技術差異是本案的核心。汎銓的專利基礎屬於較為成熟的技術範疇，而光焱的技術則代表了矽光子晶片檢測領域的最新進展。光焱的高光譜成像技術感測模組能夠高度整合於客戶端的系統，例如探針台或電測機，直接進行高效能的矽光子光學檢測，而光損檢測僅是其多功能模組中的一項應用。

產業影響：此技術世代的差異，如同將傳統的膠卷相機與現代的數位單眼相機進行比較，儘管都能捕捉影像，但其底層技術、功能性與應用彈性已不可同日而語。光焱科技的技術更符合當前矽光子產業對高整合度與先進檢測方案的需求。以下為兩者技術差異的具體比較：

光焱科技強調：「拿之前的金相顯微鏡專利，來告自家新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的。」

「光損檢測」詞彙爭議：專利保護範疇的界定

數據發現：針對汎銓科技於記者會上聲稱其專利曾挺過17項舉發而維持有效，光焱科技亦提出反擊。經檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主因係舉發人當時提出的是更先進的檢測技術與零組件作為證據，主管機關因此認定這些證據與汎銓所採用的傳統金相顯微鏡技術「無關」。

解讀意義：這項判斷恰好證明了汎銓專利所保障的僅是其自身特定的技術實施手段。這進一步明確證實，光焱科技所採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同，因此並無侵權之疑慮。專利權的本質在於保護特定的發明方法或裝置，而非壟斷一個通用性的技術詞彙。

產業影響：光焱科技指出，專利保障的是特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」一詞註冊為商標來買斷市場。這意味著，不能因為汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備皆侵害其權益。這種對專利範圍的過度延伸，可能扼殺產業的創新活力，限制新技術的發展與應用。

光焱科技強調：「專利保障的是特定的技術實施手段，而非將『光損檢測』一詞註冊為商標來買斷市場，不能因為汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備『光損檢測』功能的設備皆侵害其權益。」

數據背後的啟示：捍衛產業創新與合法權益

數據發現：光焱科技深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，累積了豐富的技術實力與市場經驗。面對此次同業的不實指控與行銷操作，光焱科技明確表示，公司的營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響。

解讀意義：這項聲明不僅是對市場的穩定信心喊話，也顯示光焱科技對其技術獨立性與營運韌性的堅定立場。在專利訴訟的過程中，維持正常營運與市場溝通至關重要，以避免不實訊息對企業聲譽和股東權益造成損害。

產業影響：展望未來，光焱科技將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東之合法權益。此案也提醒業界，智慧財產權的界定應清晰明確，避免模糊地帶引發不必要的爭議，進而影響整體產業的健康發展與創新進程。