汎銓重磅出擊!控光焱專利侵權求償2億,AI晶片技術戰火延燒,捍衛智財權決心不容小覷

事件總覽:自2026年3月起,AI晶片研發分析平台汎銓科技,正式向智慧財產及商業法院提告光焱科技侵害其「光損偵測裝置」發明專利,要求停止侵權並索賠新台幣2億元,這場半導體核心技術的智慧財產權攻防戰已全面引爆,凸顯台灣科技產業在創新與專利保護上的高度重視。

📅 2026年3月25日:汎銓正式提告,啟動專利侵權訴訟

話說回來,這場科技界的震撼彈,始於汎銓科技在2026年3月25日上午,正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟。汎銓主張,光焱科技股份有限公司侵害了他們所擁有的中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利。這直接導致汎銓依法請求光焱停止相關侵權行為,並提出高達新台幣2億元的損害賠償。

此舉不僅是單純的法律行動,更是汎銓對其長期研發成果與智慧財產權的堅定捍衛。本案既已進入司法程序,所有相關的事實與法律爭點,都將依法由法院進行審理並做出最終判斷。

📅 2026年3月26日:汎銓回應光焱聲明,重申尊重司法

就在汎銓提告後的隔天,也就是2026年3月26日,光焱科技(7728)對外發布了相關聲明。不過,汎銓科技隨後也發布說明,強調基於尊重司法程序的原則,他們不會就個別的技術爭議或是光焱單方面的說法進行逐一回應。

汎銓認為,關於雙方的技術差異、是否確實構成專利侵權,以及相關專利權利範圍的認定,這些都屬於專業的法律與技術判斷範疇,最終應回歸智慧財產及商業法院,依據具體事證進行審理。這也等於是汎銓將球丟回給司法,呼籲所有相關當事人應以誠實的態度面對司法程序。

💡 汎銓的技術底蘊與專利佈局:AI晶片與矽光子核心

其實,汎銓科技之所以能在此領域發聲,源於他們長期以來深耕於半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台以及矽光子檢測技術。這些核心技術並非一蹴可幾,而是投入了大量的研發資源才得以累積的成果。

其中,「光損偵測裝置」更是汎銓重要的關鍵技術之一,不僅在台灣取得發明專利,甚至在日本及美國也同步獲得專利認證。這項技術實際應用於矽光子元件的光損量測與定位分析,對於高速光通訊、AI以及光電整合等應用領域,都具備高度的技術價值與產業重要性。

⚖️ 訴訟背後的產業意義:捍衛台灣科技業的智財權

汎銓這次提起訴訟,說真的,不只是為了自家權益。他們強調,這不僅是基於維護自主研發成果與智慧財產權的正當權益,更是對台灣整體科技產業價值與重要性的一種表態,同時也是對全體股東與利害關係人負責的必要行動。

汎銓一向重視技術創新與智慧財產保護,並致力於建立健全的產業競爭環境。透過這次的合法途徑,他們期望確保技術成果不受不當侵害,藉此樹立台灣科技產業對於專利與營業秘密上採取最高標準捍衛的決心與努力,這在競爭激烈的AI晶片時代,無疑是劃下了一道重要的「技術護城河」。

至今影響與未來展望

這起專利侵權訴訟,在2026年3月正式浮上檯面,不僅直接影響汎銓與光焱兩家公司的營運與聲譽,更為台灣半導體產業的智慧財產權保護樹立了新的標竿。汎銓重申,相關爭議已正式進入司法程序,後續將尊重法院的審理結果,並依法保障公司及全體股東的合法權益。未來,這場訴訟的發展,將持續受到業界的高度關注,其判決結果也可能對台灣AI晶片與矽光子領域的專利競爭格局產生深遠的影響。

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